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亚太日报 牧之
根据荷兰政府在今年6月颁布的出口管制措施的规定，今年9月1日起，荷兰将要求该国生产先进芯片制造设备的公司在出口一些先进的DUV（深紫外线）光刻机时需要申请许可证，这项条例将主要针对光刻机向中国的出口动作。不过，荷兰光刻机生产企业阿斯麦（ASML）表示，目前阿斯麦已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请。至少在今年年内，阿斯麦公司最先进的光刻机系统仍能向中国供货。
有分析认为，阿斯麦可以在这种紧张环境下拿到对华出口许可，或许和中国高端手机厂商华为近日的动作有关。在华为公司最新曝光的麒麟9000s芯片，采用了国产技术，而且根据大量海内外科技博主的拆机评测后普遍认为，它的工艺大概率不是以前推测的“使用14纳米级芯片技术两片堆叠达到7纳米级”，而是直接采用了7纳米的光刻技术，而目前已知的国内并没有已经得到曝光的7纳米光刻机，因此有很多分析人士猜测，或许是芯片代工厂中芯国际甚至是华为公司已经掌握了7纳米光刻机的技术。
而正是这种可能出现的技术飞跃，导致荷兰等芯片领域强国不得不采取对应措施，及时放开光刻机的出口，否则一旦我国完全掌握了自主研发光刻机的技术，那么届时海外光刻机很可能在国内就再也没有销路了。
光刻机，是芯片制造领域皇冠上的宝珠，说通俗些，光刻机就是刻画芯片电路的打印机，在一整块晶圆上涂抹光刻胶，随后光刻机将在晶圆上通过紫外线照射的方式来蚀刻出精密的电路，所谓的7纳米和14纳米，就是打印机“印刷头”的粗细，这个印刷头越细，也就代表在单个芯片上可以刻出来的电路越密，芯片性能也就越强悍。有消息表明，当前我国自主研发的光刻机，已经可以达到14纳米级，而具体有没有7纳米级的光刻机技术，在不久前还尚无定论，不过不久后华为公司针对这一款麒麟9000s的发布会或许会最终披露芯片的参数，届时我国是否会被证实出现7纳米光刻机，就会有一个定数了。
当今美国针对我国的科技封锁战正是如此，如果我国不能出现类似于麒麟9000s这样的技术突破，或许阿斯麦也不会突然拿到所谓的出口许可，那么我国的高端芯片制造业，或许就会如同日本的东芝和法国的阿尔斯通一样，被美国的制裁之刃彻底击败。而我国得益于早前的部分技术积累，突破7纳米级的光刻机技术实际上也就是时间问题了，而且根据未经证实的小道消息描述，或许华为公司手中还有一款更高端的麒麟9100芯片将在近期择机发布，而它的技术水平或许将直追当前全球最主流的芯片技术。如此笑对美国的制裁，这也是我国敢于打破美国科技霸权的底气所在了。
（来源：亚太日报 APD News）
