疯狂抹黑!两名中国籍高校研究人员在美被捕,美司法部宣称其“破坏证据”“窃取机密”

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【环球网报道记者侯佳欣】美国司法部又瞄准两名中国籍研究人员。据美国哥伦比亚广播公司(CBS)旗下媒体报道,美国司法部28日发布声明称,一名中国籍加州大学洛杉矶分校研究员关磊(GuanLei,音译)因涉嫌破坏证据妨碍联邦调查局(FBI)的调查而被逮捕并起诉。此外,弗吉尼亚州另一名中国籍研究员胡海周(HaizhouHu,音译)也于28日当天遭逮捕。

报道称,根据公开的关磊起诉书,美司法部宣称,他于7月25日被人看见将一个损坏的电脑硬盘丢弃在公寓外的垃圾桶。在关磊被禁止搭机返回中国及拒绝FBI检查其电脑的要求后,FBI找回了损坏的硬盘,发现该设备已无法修好。起诉书还声称,关磊因可能将敏感的美国软件或技术资料移转到国防科技大学(NUDT)并不实地否认他和中国军方有关。

美司法部声明称,关磊8月28日首度出庭,预计下个月17日传讯。

另据CBS19频道报道,根据美国弗吉尼亚州检察官办公室发布的消息,现年34岁的胡海周于28日被捕,被控未经授权或越权从受保护的计算机上获取信息,以及窃取商业机密。美媒称,他25日曾试图从芝加哥某机场前往中国,但在例行检查中被发现携带了未经授权的研究代码。

近来,美国国内不断有炒作所谓“中国渗透”的声音。上个星期,美国司法部指控现年53岁的得克萨斯州农工大学教授成正东(ZhengdongCheng,音译)涉嫌串谋、虚假陈述和电信欺诈。

中国外交部发言人汪文斌此前表示,美方执法部门为了抹黑打压中国,近来不断炒作所谓“中国渗透”、“中国间谍问题”,已经到了草木皆兵、杯弓蛇影的地步。众所周知,美国在全球范围内猖獗地大搞间谍窃密活动,连自己盟友都不放过。这些都有实据可查。

上月,美国国立卫生研究院(NIH)发布了一份关于“外国影响美国科研”调查的阶段性成果报告。报告显示,NIH调查的189名科学家中只有7名(4%)存在潜在的知识产权问题,且尚未经法庭检验达到判罪标准。NIH院长并呼吁美方加强与中国的合作和对话,而不是制造“有毒”的科研环境。

对此,汪文斌强调,一段时间以来,美方一些人泛化国家安全概念,罗织所谓“窃取知识产权”等莫须有罪名,诬蔑抹黑中国在美科技人员、留学生。中方已多次就此表明严正立场。现在既然有关调查结果已经发布,我们不知道美方对这个调查结果该作何评论?

汪文斌称,全球化时代,人才跨国流动,推动了全球范围内技术和经济的进步。希望美方听取美科技界人士理性客观意见,尊重事实,顺应国际科技合作的普遍规律和时代潮流,多做有利于中美科技交流与合作的事,而不是相反。